离子装置_SVC-700TMSG离子装置井泽贸易 优质商家

电子射线绘图机SPG-724

特点：

附加风格的EB光刻用图形生成装置?各种类型安装可能。

根据市面上的CAD的采用马上就可以浮起点子

为了不使用电子线绘图**机的专门知识/技能/熟练的技术，SC-701MKII离子装置，无论谁都可以在轻松的模式形成。

区域广泛（5毫米）的批量曝光

选项：

高精度舞台（控制软件）

高稳定偏转放大器

小型电子射线描画装置ACE-7000EBL

特点：

低价格/小型/简单操作。

快速起动。

EB绘图装置可以轻松导入。

钛，Cr，W等各种金属薄膜制作用

充实的装备和选择性

成本性能**的DC磁控管溅射

根据基板和溅射目标的尺寸，准备了两种类型溅射阴极水冷式磁控管

近年来，离子装置SVC-700LEB，薄膜形成技术得到广泛的应用。除了如溅镀和蒸镀系统等需要真空装置的形成方法之外，包括旋压涂敷、印刷涂敷、口模式挤塑涂敷等的实际薄膜形成系统也得以广泛研究。

其中，离子装置，特别是旋压涂敷系统常用于半导体制作过程中阻挡层及保护膜等的形成。

下面，就习用的旋压涂敷装置作一说明。

图20A、20B及20C为一般习用的旋压涂敷装置的结构和操作图。

在图20A、20B及20C中，101为旋压涂敷装置的转轴，102为样品固定底板，103为喷出涂敷液的喷孔，104为薄膜形成用基片，105、106为涂敷液，SVC-700TMSG离子装置，107为薄膜，108为飞溅液滴。

在上述装置中，如图20A所示，首先从喷孔103向基片104喷射涂敷液105并使其载于基片104上。