显微镜试料离子装置SVM-721SANYU电子 在线咨询

真空排气装置SVC-700TMSG

特点：

小型简单的真空排气系统。

各种实验对应。

利用真空排气系统，真空镀膜装置的功能扩张。

简便操作。

用途：

需要真空排气的各种实验

真空排气室系统

大气压微波等离子体源CYRANNUSR

特点：

100 Pa至105 Pa（760 Torr，大气压）为止稳定低温（非平衡）等离子发生器

可根据所有**物种产生的等离子可能（例子：空气、?等也包含）。

高游离基/离子密度化过程的高速化/低成本化化可能。

应用领域，各种表面处理和有害气体的分解/无害等范围

用途：

薄膜制作：钻石膜，DLC膜，电子显微镜试料离子装置SVM-721，SiOx膜等的等离子CVD

活性化：溶剂，中间底漆不需用塑料等的涂装、提高印刷性

清洗：铜等金属表面的氧化物，机系去除污垢

新材料合成：**微粒子（纳米粒子）等生成

分解：PFC等有害化合物气体/清净化，或者向低分子气体分解

RF溅射装置SVC-700RFI薄膜制作设备

特点：

小型紧凑尺寸

简便操作

不必说金属薄膜，较适合绝缘膜和抗氧化膜制作

小型的装备和选择性

溅射阴极水冷式磁控管

φ2英寸×1源溅射方向下降RF电源200W　13.56MHz

手动BOX付チャンバー部φ160mm×H311mm(給部含)　SUS制

水冷管付/水冷管真空泵DP：200l/sec　RP：20l/min

TMP：67l/sec(@N2)　RP：20l/min　(选择)到达压力

圧力测定ピラニー真空计气体导入机构质量流量控制器　Ar：30sccm尺寸、重量(本体)W787/D400/H859mm　約80kg

※高度及重量根据构成变动。所要电源单相100V　50/60Hz　15A